All'interno della piattaforma micro e nanotecnologica di LAAS-CNRS, che è un componente della rete ReNaTech, il progetto prevede la messa in servizio di nuove apparecchiature avanzate di scrittura diretta laser; per la realizzazione di maschere e reticoli per fotolitografia e scrittura diretta su substrati; necessari per la realizzazione di micro e nano componenti. L'attrezzatura sosterrà qualsiasi richiesta proveniente da un accademico o un industriale, francese o straniero. La sua messa in servizio sarà accompagnata da personale dedicato alla formazione degli utenti nella progettazione e modifica dei disegni che generano essi stessi i file pilota dell'apparecchiatura. Le nuove attrezzature consentiranno sia - Il ringiovanimento delle attrezzature strategiche perché al servizio di quasi tutti i progetti di micro e nano-fabbricazione - Migliorare le prestazioni della tecnologia di litografia laser - Lo sviluppo di nuovi campi tecnologici a sostegno della ricerca scientifica e R & S I - Un approccio più eco-responsabile.