14ACMOS è quello di esplorare e realizzare soluzioni per 14 Angstrom CMOS tecnologia di produzione di chip, affrontando: Litografia, metrologia, infrastruttura della maschera e tecnologia di processo. In litografia gli obiettivi dettagliati sono: - Creazione di un sistema di proiezione ottica 0.33NA di nuova generazione che si adatta ai requisiti del nodo 14A per potenza, flusso, OPO migliorato e immagini stabili; Migliorata la funzionalità. - Raggiungere un miglioramento del 40% dell'efficienza energetica per wafer, generando una fonte EUV ad alta efficienza, oltre a migliorare l'efficienza operativa dello scanner. Migliora la sostenibilità raffreddando a 32 gradi. - Massimizzare la trasmissione a vita dell'ottica EUV migliorando le capacità diagnostiche per il plasma indotto da EUV e la sua interazione con i materiali ottici EUV. In metrologia, l'obiettivo è quello di ottenere un miglioramento del 20% dei KPI pertinenti in metrologia, caratterizzazione e ispezione.