No âmbito da plataforma de micro e nanotecnologia da LAAS-CNRS, que é um componente da rede ReNaTech, o projeto envolve a colocação em funcionamento de novos equipamentos avançados de escrita direta a laser; para o fabrico de máscaras e retículos para fotolitografia e escrita direta em substratos; necessárias para a realização de micro e nano componentes. O equipamento apoiará qualquer pedido que emana de um académico ou industrial, francês ou estrangeiro. O seu comissionamento será acompanhado por pessoal dedicado à formação dos utilizadores na conceção e edição de desenhos que geram eles próprios os ficheiros-piloto do equipamento. O novo equipamento permitirá ambos - O rejuvenescimento de equipamentos estratégicos porque servindo quase todos os projetos de micro e nano-fabricação - Melhorar o desempenho da tecnologia de litografia a laser - O desenvolvimento de novos campos tecnológicos em apoio à investigação científica e I&D - Uma abordagem mais eco-responsável.