14ACMOS está a explorar e a realizar soluções para a tecnologia de fabrico de chips 14 Angstrom CMOS, abordando: Litografia, Metrologia, Infraestrutura de Máscaras e Tecnologia de Processos. Na litografia, os objetivos detalhados são: - Criação de um sistema de projecção óptica 0.33NA de nova geração que se adeque aos requisitos do nó 14A para potência, fluxo, OPO melhorado e imagens estáveis; Melhoria da funcionalidade. - Alcançar uma melhoria de 40 % na eficiência energética por bolacha, através da geração de uma fonte de VUE de elevada eficiência, bem como da melhoria da eficiência operacional do scanner. Melhorar a sustentabilidade ao arrefecer até 32 graus. Maximizar a transmissão ao longo da vida da ótica EUV, melhorando as capacidades de diagnóstico do plasma induzido por EUV e a sua interação com os materiais óticos EUV. Na Metrologia, o objetivo é alcançar uma melhoria de 20% nos KPIs relevantes de metrologia, caracterização e inspeção.